(과제) 본 발명은, 방사선 감도, 현상 밀착성이 우수한 경화막을 형성할 수 있고, 또한, 현상 시의 거품 일어남이나 이물 석출을 억제할 수 있는 감방사선성 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.또한, 본 발명은, 본 발명의 감방사선성 조성물을 이용하여 형성된 경화막 및, 상기 경화막을 구비하는 표시 소자를 제공하는 것도 목적으로 한다.또한, 본 발명은, 현상 시의 거품 일어남이나 이물 석출을 억제할 수 있고, 또한, 방사선 감도, 현상 밀착성이 우수한 패턴(경화막)을 형성할 수 있는 패턴 형성 방법을 제공하는 것도 목적으로 한다.(해결 수단) 본 발명은, 중합체 (A)와, 광 산 발생제 (B)와, 계면 활성제 (C)와, 용제 (S)를 함유하고, 상기 계면 활성제 (C)가, HLB값이 0 이상 3.5 이하인 폴리옥시알킬렌계 계면 활성제 (C1), 또는, 폴리(메타)아크릴산 에스테르, 폴리비닐에테르, 폴리올레핀 및, 변성 혹은 비변성의 폴리디메틸실록산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상을 포함하는 소포제 (C2)를 함유하는, 포지티브형 감방사선성 조성물에 관한 것이다.
- 출원번호 : 10-2025-0112160
- 출원인 : 제이에스알 가부시키가이샤
- 특허번호 :
- IPC : G03F-007/039;G03F-007/075;G03F-007/20;G03F-007/26;