본 발명은 원자력발전소의 열수송계통에 대한 방사선학적 특성 분석 및 평가를 위한 시료채취방법에 관한 것으로, 그 목적은 원자력발전소의 열수송계통에 대한 방사선학적 특성 분석 및 평가를 하기 위한 열수송계통에 대한 방사선학적 특성 설계도를 제작할 수 있도록 열수송계통의 각 시료채취지점에 대한 방사성시료를 안전하고 효율적으로 채취할 수 있도록 하는 것이며, 그 구성은 원자력발전소 관리구역 내의 열수송계통 및 열수송기기에 대한 각종 정보를 취합하여 분석하고, 그 분석결과에 의거하여 원자력발전소의 각 관리구역 내의 열수송계통 중 방사능 계측 주요대상 지점, 방사능 계측 대상 지점 및 방사능 계측 비대상 지점을 예측하고, 각 관리구역에 대한 방사능 계측 방식을 결정하고, 예측된 각 방사능 계측 주요대상 지점, 방사능 계측 대상 지점 및 방사능 계측 비대상 지점에 대한 정보 및 각 관리구역에 대한 방사능 계측 방식을 각각 구별하여 표시되고, 열수송계통 및 열수송기기의 각각에 대한 상세 설계도가 포함된 예비 방사능 계측 계획서를 제작하는 예비 방사능 계측 실행 계획단계와; 상기 예비 방사능 계측 실행 계획단계에서 제작된 예비 방사능 계측 계획서의 각각의 방사능 계측 주요대상 지점, 방사능 계측 대상 지점 및 각 지점의 주변에 대한 개략적인 방사능 계측을 결정된 방사능 계측 방식에 따라 실시하는 동시에 열수송계통 및 주변 환경에 대한 구조학적 상태을 점검하는 예비 방사능 계측 및 구조학적 상태 점검단계와; 상기 예비 방사능 계측 및 구조학적 상태 점검단계를 통하여 취득한 각각의 방사능 계측 주요대상 지점, 방사능 계측 대상 지점 및 각 지점의 주변에 대한 개략적인 방사능 계측 데이터 및 구조학적 상태 데이터가 표시되는 동시에 상기 예비 방사능 계측 실행 계획단계의 예비 방사능 계측 계획서와 상기 개략적인 방사능 계측 및 구조학적 상태 데이터에 의거하여 각 대상 관리구역 또는 각 대상 관리구역 내의 열수송계통에 대한 정밀 방사선 측정 지점을 결정하는 동시에 결정된 각 정밀 방사선 측정 지점에 대한 방사선 측정 방식을 결정하고, 결정된 정밀 방사선 측정 지점 및 각 정밀 방사선 측정 지점에 대한 방사선 측정 방식이 표시된 상세 설계도를 포함하는 정밀 방사선 측정 계획서를 제작하는 본 방사선 측정 실행 계획단계와; 상기 본 방사선 측정 실행 계획단계의 정밀 방사선 측정 계획서에 따라 각 정밀 방사선 측정 지점에 대하여 각기 결정된 방사선 측정 방식으로 정밀 방사선 측정을 실시하는 본 방사능 측정단계와; 상기 본 방사능 측정단계에서 취득된 열수송계통의 각 정밀 방사선 측정 지점에 대한 정밀 방사선 측정 데이터 및 상기 본 방사선 측정 실행 계획단계의 정밀 방서선 측정 계획서에 의거하여 열수송계통의 방사능 계측 주요대상 지점, 방사능 계측 대상 지점 및 방사능 계측 비대상 지점 중 시료채취지점들을 결정하고, 채취된 시료의 외부반출 허가여부를 확인하고, 결정된 시료채취지점 및 각 시료채취지점의 채취시료에 대한 반출 허가 여부 및 각 시료채취지점의 구조학적 상태 데이터가 표시된 상세 설계도를 포함하는 시료채취 계획서를 제작하는 시료채취 실행계획단계와; 상기 시료채취 실행계획단계에서 제작된 시료채취 계획서에 따라 대상 관리구역 내의 열수송계통 및 열수송기기의 시료채취지점에 대한 방사선학적 환경, 구조학적 상태 및 채취시료의 반출허가여부를 점검한 다음, 그 점검결과에 의거하여 각 시료채취지점에 대한 시료채취방식을 결정하고, 결정된 각 시료채취지점에 대한 시료채취방식을 상기 시료채취 실행계획단계의 시료채취 계획서의 상세 설계도 상에 표시하는 시료채취방식 결정단계와; 상기 시료채취방식 결정단계에서 결정된 각 시료채취지점에 대해 시료채취방식으로 대상 관리구역 내의 열수송계통 상의 각 시료채취지점에 대한 시료채취를 실시하는 시료채취단계로 구성되는 것을 특징으로 한다.

• 출원번호 : 10-2024-0114910
• 출원인 : 세안에너텍 주식회사
• 특허번호 : 10-2745602-0000
• IPC : G01T-007/02;G01T-001/167;

An optoelectronic semiconductor device (1) is specified with: - a semiconductor chip (2) which, in operation, emits electromagnetic radiation of a first wavelength range from a radiation exit surface (3), and - a color setting structure (4) comprising a matrix material (5), a conversion element (6) and a filter element (7), wherein the conversion element (6) converts at least the electromagnetic radiation of the first wavelength range into electromagnetic radiation of a second wavelength range, and the filter element (7) comprises a higher transmission for radiation of the first wavelength range compared to a radiation having a higher wavelength. Further, a method of manufacturing an optoelectronic semiconductor device is provided.

• 출원번호 : EP2024/073894
• 출원인 : AMS-OSRAM INTERNATIONAL GMBH
• 특허번호 :
• IPC : H01L-033/50(2010.01)

The information processing apparatus includes at least one processor. The processor acquires a series of radiation images captured by performing continuous irradiation with radiation, acquires relevant information that is generated by recognizing a voice and is related to imaging content of the series of radiation images, and associates the series of radiation images with the relevant information.

• 출원번호 : 18815862
• 출원인 : HORIUCHI, Hisatsugu
• 특허번호 :
• IPC : A61B-006/46(2024.01);A61B-006/00(2024.01);A61B-006/50(2024.01);G10L-015/22(2006.01);G16H-030/40(2018.01);

A medical device has a base body on a delimiting surface of a room. The medical device furthermore has an additional body supported pivotably about a pivot axis on the base body. Thus, by pivoting the additional body about the pivot axis, it is possible to set a rotational position of the additional body relative to the base body. The additional body directly or indirectly carries a radiation source for emitting ionizing radiation. A data transmission element is on each of the base body and on the additional body in each case. The data transmission elements are arranged flush on the base body and on the additional body with respect to the pivot axis and are spaced apart from one another, seen in the direction of the pivot axis.

• 출원번호 : 18816139
• 출원인 : Siemens Healthineers AG
• 특허번호 :
• IPC : A61N-005/06(2006.01)

Versatile, multimode radiographic systems and methods utilize portable energy emitters and radiation-tracking detectors. The x-ray emitter may include a digital camera and, optionally, a thermal imaging camera to provide for fluoroscopic, digital, and infrared thermal imagery of a patient for the purpose of aiding diagnostic, surgical, and non-surgical interventions. The emitter may cooperative with an inventive x-ray capture stage that automatically pivots, orients and aligns itself with the emitter to maximize exposure quality and safety. The combined system uses less power, corrects for any skew or perspective in the emission, allows the subject to remain in place, and allows the surgeon's workflow to continue uninterrupted.

• 출원번호 : 18816751
• 출원인 : OXOS Medical, Inc.
• 특허번호 :
• IPC : A61B-006/58(2006.01);A61B-006/00(2006.01);A61B-006/06(2006.01);A61B-006/46(2006.01);H04N-005/32(2006.01);H04N-005/33(2006.01);

A calibration device for a medical imaging system is provided. The calibration device includes a structural framework and multiple markers arranged on the structural framework. At least one of the following two conditions are satisfied: at least two markers are with different absorption rates for a radiation used by the medical imaging system; and at least two positions within one of the markers are with different absorption rates for the radiation.

• 출원번호 : 18816479
• 출원인 : CHOU, HAO-KAI
• 특허번호 :
• IPC : A61B-006/58(2006.01)

A processor mutually registers another fluoroscopy apparatus other than a fluoroscopy apparatus of which the imaging control device itself controls the fluoroscopy, and notifies, in a case in which an instruction to start emitting radiation is given and the radiation is emitted from the fluoroscopy apparatus of which the imaging control device itself controls the fluoroscopy, the other fluoroscopy apparatus that the radiation has been emitted.

• 출원번호 : 18817183
• 출원인 : HAMAUZU, Shin
• 특허번호 :
• IPC : A61B-006/00(2024.01);A61B-006/58(2024.01);

A computer-implemented method for scattered radiation correction, comprises: receiving a plurality of projection images mapping an object; receiving or determining a virtual three-dimensional reference image mapping the object; determining at least one scattering model; subtracting the at least one scattering model from the projection images to determine corrected projection images; determining a corrected medical image as a function of the corrected projection images; comparing the corrected image with the virtual reference image; and checking whether an abort criteria is met. If the abort criteria is met, then the corrected medical image is provided. If the abort criteria is not met, then the at least one scattering model is adapted and the method is repeated based on the adapted scattering model.

• 출원번호 : 18816206
• 출원인 : Siemens Healthineers AG
• 특허번호 :
• IPC : G06T-005/50(2006.01);G06T-005/60(2006.01);G06T-007/00(2006.01);G06T-015/00(2006.01);

Organotin patterning compositions have radiation sensitive ligands with acetal functional groups. Precursor compositions are compositions comprising (OR4)(OR3)R2CR1SnL3, where the R groups are substituted or unsubstituted hydrocarbyl groups and L is a hydrolysable ligand. The precursors can be formed into coating that can be patterned with radiation, in particular EUV radiation. Coatings formed with blended precursors with hydrocarbyl-based ligands with some having acetal groups and others lacking acetal groups can be particularly effective for improving positive tone patterning.

• 출원번호 : 18816097
• 출원인 : Marwitz, Alexander C.
• 특허번호 :
• IPC : C07F-007/22(2006.01);C09K-011/06(2006.01);G03F-007/004(2006.01);G03F-007/20(2006.01);G03F-007/32(2006.01);

An organotin photoresist composition for photolithography patterning is described, wherein organotin photoresist composition comprises a (stannocenyl oxide)tin compound, a solvent, and/or an additive. (Stannocenyl oxide)tin compound comprises cyclopentadienyl CHgroup, or substituted cyclopentadienyl CHR, CHR, CHR, CHR, or CR group. A method for photolithography patterning comprises depositing (stannocenyl oxide)tin compound photoresist composition over a substrate to form a photoresist layer; exposing the (stannocenyl oxide)tin photoresist layer to actinic radiation to form a latent pattern; and developing the latent pattern by applying a developer to remove the unexposed or exposed portion of photoresists to form a photolithography pattern.

• 출원번호 : US2024/043933
• 출원인 : LU, Feng
• 특허번호 :
• IPC : G03F-007/004(2006.01);C07F-007/22(2006.01);