One variation of a system includes a pressure vessel: including a wall; defining a primary working fluid circuit extending vertically within the wall; defining a secondary working fluid circuit extending vertically within the wall and fluidly isolated from the primary working fluid circuit; and configured to store a nuclear fuel, a primary working fluid, and a secondary working fluid. The wall of the pressure vessel: defines a heat exchanger configured to transfer thermal energy from the primary working fluid flowing through the primary working fluid circuit into the secondary working fluid flowing through the secondary working fluid circuit; and defines a radiation shield configured to attenuate radiation emitted by the nuclear fuel.

• 출원번호 : 18921964
• 출원인 : Kugelmass, Bret
• 특허번호 :
• IPC : G21C-013/087(2006.01);G21C-013/028(2006.01);G21C-015/04(2006.01);G21C-015/12(2006.01);G21C-015/243(2006.01);G21C-015/26(2006.01);

The present disclosure is related to systems and methods for radiation. The method may include obtaining a plurality of reference images of a target of a subject and reference physiological motion information of the subject. The plurality of reference images and the reference physiological motion information may be acquired in a radiation period. The method may include establishing a correlation model based on the plurality of reference images and the reference physiological motion information. The method may include monitoring real-time motion information of the target based on the correlation model during a radiation operation performed during the radiation period.

• 출원번호 : 18922297
• 출원인 : SHANGHAI UNITED IMAGING HEALTHCARE CO., LTD.
• 특허번호 :
• IPC : A61N-005/10(2006.01);G06T-007/00(2006.01);G06T-007/246(2006.01);

A multi-optic system has a unitary lens with two or more co-molded individual optics molded such that each individual optic is adjacent at least one other individual optic, each individual optic configured to be illuminated with a respective radiation source, and a skirt extending from a perimeter of the front surface of the unitary lens. An optical-blocking barrier is positioned between adjacent individual optics and configured to prevent transmission of undesired source emissions between the adjacent individual optics. A substrate on which radiation sources are carried and at least one of the skirt and the optical-blocking barrier enclose the multi-optic system.

• 출원번호 : 18921572
• 출원인 : Pickholz, Michael F.
• 특허번호 :
• IPC : G02B-003/00(2006.01);F21S-041/143(2006.01);F21S-041/26(2006.01);F21S-041/32(2006.01);F21S-043/31(2006.01);F21V-007/00(2006.01);

본 발명은 원자력발전소의 해체 시에 발생되는 방사성 오염 토양의 처리방법 및 그 처리장치에 관한 것으로, 그 목적은 원자력발전소의 해체 시 발생되는 대량의 방사성 오염 토양을 2차 방사성폐기물의 발생 없이 간편하고 신속하게 처리하는 동시에 발생되는 방사성 토양 폐기물량을 크게 감용(感容)함은 물론 처리비용도 현저히 절감할 수 있도록 하는 것이며, 그 구성은 원자력발전소의 해체 시 발생된 방사성 오염 토양(RPS)에 대한 신속한 방사능 검출을 실시하는 예비 방사능 검출단계와; 상기 예비 방사능 검출단계에서 검출된 방사선량 값이 자체 처분 허용 농도 미만이라면, 해당 방사성 오염 토양(RPS)에 대한 정밀 방사능 검출을 실시하는 제1 정밀 방사능 검출단계와; 상기 예비 방사능 검출단계 및 제1 정밀 방사능 검출단계에서 검출된 방사선량 값이 자체 처분 허용 농도 이상이라면, 해당 방사성 오염 토양(RPS)을 거름망수단을 사용하여 2개의 입자의 크기로 분류하는 토양 입도 분류단계와; 상기 토양 입도 분류단계를 통해 분류된 작은 입자 토양(SS)에 대한 정밀 방사능 검출을 실시하는 제2 정밀 방사능 검출단계와; 상기 토양 입도 분류단계를 통해 분류된 큰 입자 토양(BS)에 대한 정밀 방사능 검출을 실시하는 제3 정밀 방사능 검출단계와; 상기 제1 내지 제3 정밀 방사능 검출단계에서 실시한 정밀 방사능 검출에 의해 검출된 방사선량 값이 기준값 미만인 해당 방사성 오염 토양(RPS), 작은 입자 토양(SS) 및 큰 입자 토양(BS)에 대하여 자체 처분하도록 분류하는 자체 처분 분류단계와; 상기 제1 내지 제3 정밀 방사능 검출단계에서 실시한 정밀 방사능 검출에 의해 검출된 방사선량 값이 기준값 이상인 해당 방사성 오염 토양(RPS), 작은 입자 토양(SS) 및 큰 입자 토양(BS)에 대하여 드럼 포장하여 방사성폐기물로 처분하도록 분류하는 방사성폐기물 처분 분류단계로 구성되는 것을 특징으로 한다.

• 출원번호 : 10-2024-0142581
• 출원인 : 주식회사 엘씨젠
• 특허번호 : 10-2780936-0000
• IPC : G21F-009/34;B07B-001/28;B07C-005/06;B09C-001/00;B65G-043/08;B65G-047/44;G01T-001/167;

본 발명은 본 발명에 따른 원자력발전소의 해체 시에 발생되는 액체 방사성폐기물의 통합 처리장치에 관한 것이며, 그 목적은 원자력발전소의 해체 시 발생되는 액체 방사성폐기물을 각 성상(性狀)에 따라 적합한 공정으로 처리하여 그 처리결과물인 방사성폐기물을 크게 저감되고 처리비용도 절감될 수 있도록 효율적으로 처리할 수 있도록 하는 것이며, 그 구성은 저농도, 고농도 및 유기 액체 방사성폐기물을 각각 구분하여 임시 저장하는, 필요 시에 저장된 액체 방사성폐기물을 배출하는 복수개의 저장탱크로 구성되는 액체 방사성폐기물 저장부와; 상기 액체 방사성폐기물 저장부의 각 저장탱크의 배출구와 각각 연통되게 연결되고, 각각의 저장탱크로 부터 이송되는 저농도, 고농도 및 유기 액체 방사성폐기물 내에 포함된 이물질, 오일, 불순물, 침전물 및 고체를 분리하여 수집하고, 유기 액체 방사성폐기물 내에 포함된 유기 화합물을 분해하고, 분리된 이물질, 오일, 불순물, 침전물 및 고체를 잡고체 방사성폐기물로 분류하여 처리하고, 유기 액체 방사성폐기물 내에 포함된 유기 화합물을 분해하는 전처리부와; 상기 전처리부를 통과하여 이송되는 액체 방사성폐기물 내에 함유된 방사성 오염물질을 제거하고, 방사성 오염물질이 제거된 액증기가 함유된 배기체를 배기체와 배출액으로 기액 분리하는 본처리부와; 상기 본처리부를 통과하여 이송되는 배기체와 배출액를 정화하고, 정화된 배기체 및 배출액을 건축물의 배기 및 배수계통으로 배출하는 후처리부와; 상기 액체 방사성폐기물 저장부, 전처리부, 본처리부 및 후처리부의 각종 감지수단, 구동 및 개폐작동 부속기기들과 각각 연결되고, 각 부속기기들의 작동을 제어하고, 작업자의 제어명령을 입력하는 제어반으로 구성되는 것을 특징으로 한다.

• 출원번호 : 10-2024-0142560
• 출원인 : 주식회사 엘씨젠
• 특허번호 : 10-2794758-0000
• IPC : G21F-009/20;B01D-046/56;B01D-005/00;C02F-001/08;C02F-001/40;C02F-001/44;C02F-001/46;C02F-001/52;G21F-009/02;G21F-009/10;G21F-009/12;

A zinc injection control method and apparatus, a zinc injection system, a computer device, a computer-readable storage medium, and a computer program product. The method comprises: controlling a zinc injection apparatus to perform zinc injection on a loop of a nuclear power plant at a preset zinc injection flow rate; acquiring a real-time zinc concentration and real-time parameters of a unit of the loop; and on the basis of the real-time zinc concentration, the real-time parameters of the unit of the loop and a standard concentration range, performing control on the zinc injection.

• 출원번호 : CN2024/125827
• 출원인 : CHINA NUCLEAR POWER ENGINEERING CO., LTD.;CHINA NUCLEAR POWER DESIGN COMPANY LTD. (SHENZHEN);
• 특허번호 :
• IPC : G21D-003/08(2006.01);G21F-009/00(2006.01);G21C-017/022(2006.01);

A method for characterizing a lithography apparatus, in particular, a method for characterizing a lithography apparatus configured to cause an obscuration of radiation, as well as a lithography apparatus and a computer program product configured to carry out the methods. A method for characterizing a lithography apparatus; detecting first diffracted radiation of the lithography apparatus, wherein the first diffracted radiation was diffracted at a characterization element; determining a diffraction property of the characterization element based on at least in part the first substantially undiffracted radiation and the first diffracted radiation.

• 출원번호 : 18920238
• 출원인 : BUSCHLINGER, Robert
• 특허번호 :
• IPC : G03F-007/00(2006.01)

In a method of forming a pattern, a photo resist layer is formed over an underlying layer, the photo resist layer is exposed to an actinic radiation carrying pattern information, the exposed photo resist layer is developed to form a developed resist pattern, a directional etching operation is applied to the developed resist pattern to form a trimmed resist pattern, and the underlying layer is patterned using the trimmed resist pattern as an etching mask.

• 출원번호 : 18920346
• 출원인 : Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.
• 특허번호 :
• IPC : G03F-007/00(2006.01);G03F-001/22(2006.01);G03F-001/36(2006.01);G03F-001/70(2006.01);G03F-007/40(2006.01);H01L-021/027(2006.01);

A method for producing a semiconductor substrate includes: applying a silicon-containing composition directly or indirectly to a substrate to form a silicon-containing film; applying a composition for forming a resist film to the silicon-containing film to form a resist film; exposing the resist film to radiation; and developing at least the exposed resist film. The silicon-containing composition includes: a silicon-containing compound; a polymer including a structural unit represented by formula (1); and a solvent. A content of the silicon-containing compound in the silicon-containing composition relative to 100% by mass of components other than the solvent in the silicon-containing composition is from 50% to 99.9% by mass. RA1 is a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms; and RA2 is a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms.

• 출원번호 : 18919818
• 출원인 : JSR CORPORATION
• 특허번호 :
• IPC : G03F-007/00(2006.01);C08K-005/5419(2006.01);C09D-133/06(2006.01);G03F-007/039(2006.01);G03F-007/075(2006.01);G03F-007/16(2006.01);H01L-021/027(2006.01);

A treatment planning system is provided. The treatment planning system includes one or more processors, a memory, and one or more application programs, wherein the one or more application programs are stored in the memory and, when loaded and run by the one or more processors, cause the one or more processors to: acquire a target volume image; acquire arc information, wherein the arc information indicates that a rotation angle for which a radiation source continuously arcs along a first direction is greater than or equal to 360 degrees; acquire prescription dose information, wherein the prescription dose information includes target radiation doses for different regions; and generate a treatment plan based on the target volume image, the arc information, and the prescription dose information.

• 출원번호 : 18920687
• 출원인 : CHENG, Hong
• 특허번호 :
• IPC : G16H-020/40(2018.01);A61N-005/10(2006.01);